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高分子发泡材料研磨分散机
  • 产品型号:GMD2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-12-23
  • 访  问  量:392
简要描述:

高分子发泡材料研磨分散机,SID研磨分散机设计独特,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。转速可达18000rpm,胶体磨+分散机一体化设备,先研磨后分散,效果佳。

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产品详情

高分子发泡材料研磨分散机

SID研磨分散机设计独特,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。研磨分散机转速可达18000rpm,胶体磨+分散机一体化设备,先研磨后分散,效果佳。


高分子发泡材料特点和应用

目前,高分子发泡材料广泛应用于隔热、隔音、减震、制鞋等领域。目前常用的高分子材料发泡方式有物理发泡和化学发泡。化学发泡法是指将化学发泡剂与高分子材料共混后,在一定温度下,化学发泡剂受热分解,产生气体,膨胀,使高分子材料发泡,目前加热方式主要还是电加热方式,由于电加热过程是通过热传导使高分子材料加热,即首先通过电热板将发泡模具加热,发泡模具将热量再传递给模腔内的发泡材料,存在能耗高,加热时间长,易出现局部加热温度过高而部分区域仍存在加热死角等问题。

高分子发泡材料研磨分散机

研磨分散设备简介

太仓希德的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将SID胶体磨进行进一步的改良,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择) SID研磨分散机可以高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速可达18000rpm,是目前普通设备转速的4-5倍。

分散机结构

GMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

初级由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

高分子发泡材料研磨分散机

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

高分子发泡材料研磨分散机设备选型表:

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的 10%。


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