二氧化tai研磨分散机是针对二氧化tai粉体设计的专用设备，通过研磨腔高速剪切、冲击与研磨介质作用，实现粉体解聚、细化与均匀分散。它能解决二氧化tai易团聚问题，提升其在涂料、塑料等领域的分散性与光学性能，具备处理效率高、粒径可控的优势，满足不同行业对二氧化tai分散质量的要求。

二氧化tai研磨分散机

【SID工业设备用于二氧化tai分散和研磨的优点】

一、缩短工艺时间。SID高剪切乳化分散设备可以迅速地混合分散二氧化tai粉末，并消除结块和团聚。SID也提供PLD和PLC粉体/液体混合机，将粉体直接加入液体，无需循环处理，一次性通过便可成型。

二、提高品质。SID高剪切混合机可以打碎结块粉体，并与液体充分混合。这样可以改善产品光泽和透明度，这两个特征由分散好坏直接决定。

三、减少资金投入。SID磨机可以程度缩小粒径，达到窄粒径分布。SID分散研磨设备的流量比同类研磨设备高出很多，但也可达到相类似的效果。模块化设计的SID 2000系列产品，可以帮助客户节约资金投资。

【SID研磨分散机的简介】

GMD2000系列研磨分散设备是SID公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

【SID研磨分散机的简介】

GMD2000系列研磨分散设备是SID公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

二氧化tai研磨分散机设备参数表：