气硅光油高剪切研磨分散机不断地从径向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改变流向,与此同时在转子区产生的上、下轴向抽吸力的作用下,又形成上、下两股强烈的翻动紊流。物料经过数次循环,完成分散过程。
气硅光油高剪切研磨分散机
二氧化硅高速分散机 , 树脂高速分散机和气硅高速分散机,消光粉高速分散机是 是指将不溶固体颗粒分散到液体中在液体介质中的分散体系。在分散过程中,往往需要减小固体颗粒,这就是湿磨或高剪切分散。
光油是一种合成树脂,现通常是指表面透明清漆,有基料和助剂等做成,不加任何颜料,成膜后油光发亮,俗称叫清漆,有UV光油与PU光油之分。
测试工艺
步骤一:反应釜1中配好树脂和气硅,然后使用齿轮泵的吸力(流量可调)使物料通过分散器,打到反应釜2,期间检测反应釜2中物料的分散情况是否达标。
期间测试多高的转速能分散气硅。
步骤二:反应釜2中加入消光粉,使用较低转速的分散能力,达到消光粉能分散但又不被分散得太细降低消光效果的程度。
期间测试多高的转速达到合适的分散效果。
研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。
一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。
以下为型号表供参考:
型号 | 标准流量 L/H | 输出转速 rpm | 标准线速度 m/s | 马达功率 KW | 进口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
气硅光油高剪切研磨分散机