高剪切纳米乳化机是一款高效分散乳化设备，核心通过高速旋转的转子与定子配合，产生强剪切、空化及湍流效应。能将物料颗粒细化至纳米级，实现快速均匀混合与稳定乳化，适配水油、固液等多种体系。设备操作便捷、处理效率高，且乳化效果稳定，广泛应用于制药、化妆品、食品等行业的gao端生产场景。

高剪切纳米乳化机

就是不相溶的固相、液相、气相在相应熟工艺和适量添加剂的共同作用下，瞬间均匀精细的分散乳化，经过高频管线式高剪切分散均质乳化机的循环往复，***终得到稳定的高品质产品。 其剪切速率可以超过100.00 rpm，转子的速度可以达到40m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。  

我国乳化机在品种上比较齐全，但规格不够完善;主机产品发展较好，但辅助机械仍较为落后;且gao端产品、自动化产品不足，乳化机比例低。我国乳化机行业大部分企业仍为国有企业，受国有体制的制约，机制不灵活，整体发展速度和新产品开发速度偏慢。我国乳化机产品精度、可靠性、稳定性有待进一步提高。国内外行业竞争进一步加剧。

影响分散乳化结果的因素有以下几点：
1 乳化头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）
2 乳化头的剪切速率  （越大，效果越好）
3 乳化头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
4  物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
– 剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)                 g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
– 转子的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。

SID 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的，根据一些行业的特殊要求, SID 在GR2000系列胶体磨的基础上又开发了一款GRS2000高速胶体磨，转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒径分布更小。

高剪切纳米乳化机设备型号参数表：